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真空电炉
CVD设备
发布时间:2016-05-23
CVD设备

一、产品特点

   采用卧式结构,占地空间小,操作方便,可对一些小型工件在真空或者保护气氛下进行热处理,是高校、科研院所、工矿企业等做CVD、气氛保护、还原和真空处理用的理想产品。

二、主要技术参数

1、效工作区:Φ100×200mm

2、均温区误差:≤±5℃

3、最高温度:1000℃

4、长期工作温度:850℃

5、仪表控温精度:±1℃

6、极限真空度:5Pa

7、压升率:≤1.33Pa/h

8、水蒸气系统:恒温水箱(室温-100度,水位可看,温度可调)

9、炉管:石英管1套,310S管1套

10、快速升温速率:≥20℃/min

11、慢速升温、降温速率:≤0.5℃/min

12、50段智能化程序控制

三、结构组成与特点

  本产品由炉体、炉管、控制系统、加热元件、水冷系统和真空系统等组成

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